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克日，毅达资源完成对浙江芯秦微电子科技有限公司（以下简称“芯秦微”）的A 轮投资。本轮融资将用于化学机械抛光液的产线建设和研发投入。

芯秦微专业从事半导体晶圆制造、半导体先进封装和新型显示等行业中功效性化学品的研发与生产。公司拥有多项焦点专利手艺，在产物开发、手艺应用方面具有厚实的行业履历和较强的创新能力。公司主要产物包罗化学机械抛光液（用于硅、碳化硅等衬底，集成电路和先进封装）和功效性电子化学品（用于洗濯、蚀刻、光刻去胶产物）。现在，芯秦微客户已遍布硅片、碳化硅、分立器件、逻辑芯片、先进封装等多个行业。

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化学机械抛光（CMP）是当今最主流的晶圆抛光手艺，能够降低晶圆外面的粗拙度，去除晶圆外面多余物，使晶圆有用地举行下一道加工程序。其中，化学机械抛光液决议了晶圆的抛光质量和抛光效率。在抛光历程中，晶圆厂会凭证每一步晶圆芯片平展度的加工要求，选择相符去除率（MRR）和外面粗拙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产物良率。为到达上述目的，化学机械抛光液供需双方需慎密配合，投入大量研发成本，调试相符晶圆厂物理化学性能及抛光性能要求的抛光液。

近年来，随着我国晶圆厂不停扩产，晶圆制造工艺不停提高，对CMP质料的需求也与日俱增。然而，CMP质料市场耐久被美日企业垄断。作为全球半导体质料需求*的市场，我国CMP质料的自给率仅17%，国产替换仍有很长的路要走。

毅达资源以为，化学机械抛光（CMP）手艺是集成电路（芯片）制造历程中实现晶圆外面平展化的要害工艺。在CMP抛光手艺的所有焦点耗材中，抛光液的市场份额占比达49%，但市场主要被外资企业控制，随着国产替换历程加速，海内抛光液企业有望迎来快速生长的时机。我们期待，芯秦微能够抢抓国产化时机，充实施展团队优势和产业化能力，增强手艺研发，提升产物竞争力，推动产物加速导入客户，未来实现更多的突破。